飞秒激光直写光刻系统 laser lithography

飞秒激光直写光刻系统是专业为微纳结构的激光蚀刻而设计的激光直写光刻机。飞秒激光直写光刻系统基于多光子聚合技术（multi photon polymerization, mPP),适合市场上的各种光刻胶（photoresists ），能够以纳米精度和分辨率微纳加工各种三维结构,是全球领先的激光光刻机.

飞秒激光直写光刻系统特点

激光光刻机3D模型制备
直写光刻机直接激光刻划
激光光刻机整套系统到货即可使用
激光光刻机提供100nm-10um的分辨率
直写光刻机超小尺寸

飞秒激光直写光刻系统工作过程

激光光刻机3D模型的制备
软件控制，简单的3D模型通过这种软件即可生成，对于比较复杂的3D模型，用户可以通过Autodesk, AutoCAD等软件制作，然后导入到三维光刻机的软件中，这个软件支持.stl, dxf等格式的文件用于3D结构的制造。

激光光刻机激光直接读写
由飞秒激光光源，精密的3轴定位台和扫描镜组成。首先，待刻录的图形通过激光光刻机精密的激光聚焦系统直接从CAD设计中导入到光刻胶上。聚合物的双光子或多光子吸收用于形成高质量表面的3D结构。<100nm的尺寸可自形成结构，200nm-10um尺寸的结构可以控制并重复，提供纳米尺度分辨率和对聚合物的广泛选择，从而可以适合微纳光学,微流体,MEMS,功能表面制作等各种应用.
与CAD设计等同的3D结构形成后，未固化的光刻胶剩余物由有机溶剂洗掉,这样只留下蚀刻的微纳结构呈现在基板上。

激光光刻机后续工序：
在所需的微纳结构形成后，它被浸入到几种不同的溶剂中，以除去蚀刻过程中留下的液态聚合物。激光光刻机全部过程都是自动化的，重要参数可以根据要求而设定：浸入时间,温度等.对于特殊的样品或加工对象，可以使用紫外光或干燥机处理。

飞秒激光直写光刻系统应用

• Nanophotonic devices (3D photonic crystals)激光光刻机用于纳米光子器件（三维光子晶体）
• Microfluidics 三维光刻机用于微流控芯片
• Microoptics (lenses, structures on an optical fiber tip, etc.)三维光刻机用于微光学（光学端面微结构制作）
• Micromechanics 激光光刻机制作机微机械
• Micro-Opto-Electromechanical Systems (MOEMS) 激光蚀刻机制作微型光机电系统
• Biomedicine 激光光刻机,三维光刻机用于生物医学