Felles 无掩膜光刻机具有无掩模技术的便利，大大提高影印和新产品研发的效率，节省时间，是全球领先的无掩模光刻系统。Felles 无掩膜光刻机直接用375nm或405nm紫外激光把图形写到光胶衬底上。

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