穆勒矩阵椭偏仪的简介

2018/7/30 14:42:38

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采用最新的FastAcq技术，基于新的电子数据处理和高速单色仪，该设备可以在3分钟内完成190到2100nm范围内的高分辨率样品测量。在测量范围内连续调整光谱分辨率的可能性，使样品扫描变得更智能，更快速。此外，UVISEL Plus还引入了一种新的校准程序，提供更快的性能和更优的精度。由于光路中没有旋转元件及附加组件，该产品为精确的椭圆参数测量提供最纯粹和有效的偏振调制。

穆勒矩阵椭偏仪

ME-L是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪，可通过反射/透射率、椭偏参数、穆勒矩阵和退偏指数等参数测量，实现各种光学薄膜和纳米结构的表征分析，特别适用于各向异性薄膜材料的测量表征及材料新特性、新物理现象的探索分析。主要应用于集成电路、半导体、薄膜光伏、平板显示、LED照明、存储、生物、光学镀膜等众多领域。

上层PCBM薄膜孔隙率为31.05%；
下层混相薄膜组分随厚度渐变情况：

· 顶部组分为79.7%P3HT+20.30%PCBM
· 底部组分56.01%P3HT+43.99%PCBM

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