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ALD-1200X-4是一款4英寸管式炉系统,包含用于原子层沉积的2个ALD进气阀、1个精密液体气相发生器以及用于CVD生长纳米材料和薄膜材料的4通道质子流量计控制系统。该管式炉系统简洁的设计使得更多的科研院所能够在可负担的低成本情况下实现ALD工艺实验。
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技术参数
控制面板 |
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ALD进气阀 |
两个ALD脉冲电磁阀(*小可在10ms完成阀门的开启或关闭) |
精密液体气相发生器![]() |
精密液体气相发生器包含在本系统中并且连接到ALD进气阀 |
双温区管式炉![]() |
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防腐型数显真空计![]() |
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真空泵(选配) |
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混气系统 |
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更新观念 |
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质保期 |
一年保质期,终身维护(不包含炉管,加热元件和密封圈) |
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注意事项 |
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