TEM氮化硅窗口 SN

透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口

TEM氮化硅窗口产品概述：

与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也采用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时RISUN也定制多孔氮化硅薄膜窗口。

RISUN透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗产品规格如下：

单窗口系列:

3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：30 nm)
3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm)

2窗口系列：3mm（窗口尺寸：100x1500微米，薄膜厚度：20nm、40nm）

9窗口系列：3mm（窗口尺寸：100x100微米,100x350 微米，薄膜厚度：20nm、40nm）

边框厚度： 200µm、381µm。
Si₃N₄薄膜厚度： 9-15nm、50nm、100nm

本产品为一次性产品，RISUN不建议用户重复使用；本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。

TEM氮化硅窗口技术指标：

表面平整度：薄膜与其下的硅片同样平整，RISUN提供的TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm，完全适用于TEM表征。

亲水性：该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。

温度特性：RISUN提供的氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。

化学特性：RISUN提供的氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。

应用简介和优点：

1、适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。

2、大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。

3、无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。

4、背景氮化硅无定形、无特征。

5、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。

6、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。

7、耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。

8、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。

RISUN也可为用户定制不同规格窗口，详情请咨询：admin@instsun.com。