PHE101单波长椭偏仪

PHE101单波长椭偏仪具有许多新的功能，如材料库，宽可变角，二次激光阵列和强大的软件使得该仪器具有很高的精度和重复性。

产品特点
出色的精度和重复
快速旋转仪操作。
功能强大的材料库软件
最宽可变角度10-90 °
自动对焦补偿样品形貌和晶圆'弯曲错位
高稳定性和测量的角度小于0.01 °的重现性
测量速度小于1秒

介绍
PHE101椭圆仪是一种理想的不连续波长椭偏仪用于测量单和多层薄膜的折射率和厚度。该PHE101椭需要快速和准确的读数，由于其精密光学分析仪/检测器，其稳定的机械设计。椭偏仪提供完整的集成的Windows软件，从而进一步增强操作仪器的速度和易用性。

PHE101具有最宽的可变角（10-90 ° ），这是可调节的步长为5 °， 0.01 °的精度。（作为一种选择，入射角可以连续地变化。）

PHE101椭偏仪的标准波长氦氖激光器波长632.8nm 。但是，该波长可以从543nm ， 594nm ， 612nm ， 633nm波长被选择为1150nm 。在0.83 ， 1.31和1.52毫米红外源也可提供。

该PHE101是非常容易使用，可以安装我们的新激光对中仪相比，传统的椭偏仪，大大提高了使用的便利性和操作的速度。

该PHE101具有大的试料台和测量速度小于1秒。

现货规格
椭偏测量可以进行对样本地区小于50毫米×50毫米作为一个选项。小横向尺寸的样品区域可以使用微点选项和映射选项一起进行分析。
校准
一种激光用于校准。这是更先进的比传统的象限坐标法。它使对准更方便，更准确，因为该操作的错误是由自动校正消除。
软件
该PHE101椭偏仪具有强大的软件，采集和数据解释，完整的材料库，新材料和有界模型算法多模型同时分析完整的关系。软件包循环计算n ，k和厚度为基板，单膜和多层。用户可以存储了用于计算的模型和仿真曲线。数据可以从椭偏仪，键盘或外部文件导入。
材料库
该PHE101椭偏软件为材料，具有预定的测量参数允许操作员选择一个应用程序，并迅速执行测量库制备。完整的材料库有上百材料信息，如半导体，电介质，金属等材料。

Specifications

Thickness range of transparent films	0 - 6000 nm
Thickness range of absorptive films	0 - 6000 nm
Range of angle of incidence	10 - 90°
Reflection angle steps	5° ± 0.01°
Accuracy of refractive index measurement	0.0001
Accuracy of film thickness measurement	± 0.001 nm for SiO₂ standard sample
Stability	Long term ( months ) ± 0.01° in D
Measurement time	less than 1 sec
Sample stage	Wafer chuck up to 200 mm diameter
Sample stage adjustments	Tilt and height
Sample alignment	Second laser alignment with automatic correction unit
Standard wavelength	632.8 nm
Optional wavelength	543 nm, 594 nm, 612 nm, 633 nm and 1150 nm or by request