1.      NP-E800系列去蜡清洗NP-E800系列去蜡清洗剂适用于各种半导体材料、水晶材料、磁性材料等表面加工过程中粘结蜡的清洗，同时对晶片表面颗粒物和各种有机物、指纹等污染物有超强的净洗能力，洗后晶片表面无蜡残留，而且对半导体材料和光学材料本身无腐蚀。
  特点

²        高效：清洗快速，清洗过程只需要5～15分钟即可，清洗能力强。

²        使用方便：清洗工艺简单，清洗操作方便，保持清洗剂沸腾或配合超声设备使用。

²        安全环保：本清洗剂为水基配方，不含有毒、有害成分，对人体无伤害，残液排放后15天可以自然降解。

2.        使用范围及参数

适用于各种半导体材料、水晶材料、磁性材料等晶片表面加工过程中去蜡的清洗过程

3.清洗工艺

NP-E800系列去蜡清洗剂可配合超声清洗设备使用，也可在特定温度下浸泡式清洗。