日本爱发科ULVAC

日本爱发科ULVAC 干泵 LR/HR/UR：

株式会社アルバック　規格品事業部真空ポンプ（ドライ真空ポンプ）

日本爱发科ULVAC 干泵 LR/HR/UR

LR/HR/UR シリーズは、独自の高温均熱化技術により圧縮熱の有効利用で CVD、ドライエッチング等のハードプロセスで

の高耐久性を実現しました。ライトプロセスでは ECO-SHOCK とのコンビネーションで最大約 70% の消費電力カットが可能

です。また、メンテナンス性向上と騒音低減をはかり、全機種 CE 対応可能（オプション）です。

日本爱发科ULVAC 干泵 LR/HR/UR【特　　　長】

●低温領域で均熱化（LRシリーズ）

PVDプロセスに加え、特にスループットを上げるために排気時間短縮が重要な仕込み取り出し室の排気に最適。

●高温領域で均熱化（HRシリーズ・URシリーズ）

CVD、エッチングなどで発生する昇華性排気物質を気体の状態で排出することが可能。

URシリーズはHRシリーズよりも、さらなる高温化が可能。

●ヘリウムタイト

キャンドモータ搭載により密閉構造のため極めて安全。

●瞬停対策

500msec以内の瞬停対策を施しています。

●優れた耐食性

主要部品には、表面硬度が高く耐食性に優れた特殊表面処理を標準採用。腐食性ガス排気時のポンプ内部の腐食を低減。

●通信機能

ポンプ運転状態に関するデータ、ワーニング／アラーム履歴を読み出すことが可能。専用ソフトを使用し､コンピュータ通信を行えば集中監視が可能。

●CE対応可能

CE対応はご発注時のご指定によるオプションになります。

日本爱发科ULVAC 干泵 LR/HR/UR【用　　　途】

●活性ガス排気（CVD、ドライエッチング等）

●不活性ガス排気（スパッタ、蒸着、熱処理等）

●仕込み取り出し室の排気時間短縮（LR シリーズ）

●粉体の発生するプロセスでの排気（Si 単結晶引き上げ等）

●補助排気ポンプとして（ターボ分子ポンプ、メカニカルブースタポンプの補助排気）

排　気　速　度　曲　線

ポンプ本体サーモグラフィ

右図にHRシリーズポンプ運転時の温度分布（表面温度：℃）を示します。ガスが通過するポンプ本体部を空冷すると、表面温度110℃付近の高温領域で均熱化されます。尚、ポンプ内部のガス温度は更に高温になっています。SiH2Cl2を使用するSiN-LPCVDで発生するNH4Clや、Alエッチングで発生するAlCl3等の昇華性物質の排気に最適です。また、運転温度切り換えバルブの操作により、ポンプ本体を水冷すると、熱負荷のかかるプロセスや高温で反応するガスの排気に最適なポンプに変身します。

CVD、エッチングプロセスにおける代表的なプロセスガスの蒸気圧特性

CVD、エッチングプロセスにおける排気物質の蒸気圧曲線とHRシリーズ（高温型）の温度分布を示します。図中に示すポンプのシリンダ段数（1～6）の各ポイントは、CVD、エッチングプロセスで発生する様々な排気物質の蒸気圧曲線より下側（気体の領域）に位

置しています。すなわち、ポンプに吸引される様々な排気物質を気体の状態で通過させることが可能です。また、ポンプを通過する気体の分圧を変化させ、御社のプロセスに最適な条件を設定します。ぜひ、お問い合わせください。

Vacuum Pump Components Division, ULVAC, Inc.

Dry Vacuum Pump LR/HR/UR Series

ULVAC's unique approach to utilize the generated heat from within the dry pump body allows the LR/HR/UR series to perform even in the most stringent processes. ULVAC has focused the design efforts into maintaining an extremely uniform high temperature throughout all pump stages making this series pump optimal for CVD and Etch applications.

ULVAC's ECO-SHOCK can be added to the LR/HR/UR pump for additional energy savings of up to 70% for any light processes including pumping air or nitrogen.

Features

• Low Temperature Pumps

The LR Series pump is designed for either Load Lock or PVD processes.

• ULVAC's Unique Aluminum Design Allows for Very Uniform Temperature Distribution Throughout the Pump Body.

The HR Series pump is designed for CVD and Etch processes.

•The ULVAC UR Series Pump is Designed for Applications That Require a Heated Pump, Heated Gas Lines, and/or Heated Exhaust Lines.

• Excellent Helium Pumping Capability Canned motor for safety and ease of maintenance.

• Power Failure Protection

Pump withstands power interruptions of up to 500ms duration.

• Superior Corrosion Resistance

Internal components are specially treated providing a high degree of surface hardness and corrosion resistance. This in turn prevents wear and corrosion of internal pump parts when exposed to corrosive gasses.

• Communication Function

Pump data including warnings and alarms are able to be exported. Extensive pump control is available.

• CE marking is Available

CE marking is available upon request.

Applications

• Pump is designed for CVD or Etching applications

• Pump is designed for PVD, Evaporation, or Heat Treatment processes

• Reduction of exhaust time for LL chamber (LR series)

• Pump is designed to handle process gasses that generate powder by products such as Si Crystal growing furnaces

• Backing pump for turbo-molecular pumps and mechanical booster pumps

Specifications