高真空蒸发镀膜设备 ei-5z

真空镀膜机 ei-5z

日本ULVAC

高真空蒸发镀膜设备

日本原装进口

进口真空镀膜机 ei-5z 日本ULVAC 高真空蒸发镀膜设备是用于在半导体或特种材料

的基板上进行多种金属或合金以及ITO材料真空镀膜的批处理式高真空蒸发镀膜设备。

进口真空镀膜机 ei-5z 日本ULVAC 高真空蒸发镀膜设备可通过触摸屏进行集中操

作控制,自动完成从真空排气至镀膜的所有过程,适用于研究开发及小批量生产。

特点:

y可同时安装电子束蒸发源和电阻加热式蒸发源 ;

y能够适合垂直入射的蒸发镀膜工艺 ;

y设备适合穿墙式安装设置方式 ;

y设备采用全自动控制的运行方式、高效、稳定。

【规格】

型号	Ei-5Z
1. 基板 1) 材料 2) 尺寸规格	・硅(Si)、砷化镓(GaAs)、氮化镓(GaN)、玻璃(Glass)、陶瓷(Ceramic)等・Φ2 ~8inch圆片及各种形状的基板
2. 真空条件 1) 前级泵 2)主泵 3) 极限压强 4) 排气速度	・油旋片泵(型号:EC-803) 排气速度:1340/1600L/min at 50/60Hz ・低温泵(CRYO-U16P) 排气速度(N2):5000L/sec ・3.0×10-5Pa 或更低・20分钟内达到 3.0×10-4 Pa
3. 成膜 1) 蒸发源 2) 基板保持架 3) 膜厚均匀性	・电子束蒸发(10kw,16kw), 热阻蒸发 / 挡板共用・公转盘,行星盘・基板内、基板间Φ2~8inch均在±5%以内
4. 基板加热	・红外灯加热 (最高350°C)
5. 操作模式	・GPCS-2700 触摸屏控制: PC+PLC
6. 附设 1) 供电 2) 冷却水 3) 压缩空气 4) 放气(氮气) 5) 接地	・AC200V±10%,φ3,50/60 Hz,50 kVA ・29 L/min, 20~28°C, 电阻率 5 kΩcm,需要压力 0.4 MPa, 背压 0.05 MPa ・0.4 ~0.7 MPa ・0.2 MPa放气及低温泵再生・A & D (JEM,JEC)