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微电极抛光仪MF-830 (Microforge)拉制出的电极,电极的尖儿端往往不是很光滑。为了能与细胞膜间形成稳定可靠的封接,一般拉制出的微电极需要对其尖儿端进行抛光处理,尤其是进行单通道记录时的微电极更需要进行抛光,此时需要使用微电极抛光仪。单通道记录中还需要在微电极尖儿端涂上疏水性硅酮树脂(Sylgard)以减小跨壁电容(Transmural capacitance)带来的噪声,此时要注意先涂Sylgard后抛光。
微电极抛光仪MF-830 应用范围:
微电极拉制仪拉出的电极,在电极的尖儿端,往往不是很光滑。因此拉制出的微电极必须进行细致的抛光处理,以保证高阻封接的质量,同时还可使封接保持长时间的稳定。在一些实验中还需要在微电极尖儿端涂上(Coating)疏水硅胶树脂(Sylgard)以减小跨壁电容(Transmural capacitance)带来的噪声.
微电极抛光仪主要特点:
1. 目镜:15X,物镜变焦倍数: 5X 和 35X
2. 放大倍数:75 --- 525倍
3. 加热操作器移动距离: X 轴14mm, Y轴14mm, Z轴14mm,
4. 电极操作器移动距离:Y轴12mm, Z轴28mm
5. Maxmum工作距离:0 – 30mm
6. 操作方便,设计合理