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光学微米膜厚测量仪利用激光相干度量学原理,测量速度达60Hz,适用于产品线上在线测量。此外,选配的映射系统可以测量指定样品的厚度分布。INF-1应用广泛,比如用于产品制造过程监控或质量控制。
详细参数
特性
- · 利用红外光度测定进行非透明样品测量
- · 测量速度高达60 Hz
- · 测量带图纹晶圆和带保护膜的晶圆
- · 长工作距离
- · 映射功能
- · 可外部控制
膜厚测量原理和特性
应用
配置
分析示例
参数
型号 |
C11011-01 |
可测膜厚范围(玻璃) |
25 μm to 2200 μm*1 |
可测膜厚范围(硅) |
10 μm to 900 μm*2 |
测量可重复性(硅) |
100 nm*3 |
测量准确度(硅) |
< 500 μm: ±0.5 μm; > 500 μm: ±0.1 %*3 |
光源 |
红外LED(1300 nm) |
光斑尺寸 |
φ60 μm*4 |
工作距离 |
155 mm*4 |
可测层数 |
一层(也可多层测量) |
分析 |
峰值探测 |
测量时间 |
16.7 ms/点*5 |
外部控制功能 |
RS-232C / PIPE |
接口 |
USB2.0 |
电源 |
AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz |
功耗 |
50W |
*1:SiO2薄膜测量特性
*2:Si薄膜测量特性
*3:测量6 μm厚硅薄膜时的标准偏差
*4:可选配1000mm工作距离的模型C11011-01WL
*5:连续数据采集时间不包括分析时间
- 询价产品:现货美国AT膜厚测厚仪,纳米级在线多层膜重检测仪 A3-SR
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