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1. 设备名称
6英寸和8英寸硅片边缘抛光机 FINE SURFACE E-150/200 Type-II
(DRY-IN / WET-OUT, OF/VN 2 Stations Type)
2. 设备用途
本设备是对6/8/12英寸(150/200/300mm)硅片外周边缘用抛光布加压的方式来进行硅片边缘(缺口VN或者参考面OF)超精密抛光的设备。(备注:V-NOTCH缩写为VN即缺口;FLAT缩写为OF即参考面)