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OTSUKA大冢-负载端口对应膜厚测量系统
特长:
集成到300mmEFEM备用port。
实现嵌入晶片的布线图案的图案对准(IR摄像头)。
应对半导体工序的高吞吐量要求。
支持预校准功能。
小占地规格(W475mm×D555mm)
■貼り合わせウェーハ(Si/ボンディング/サポート基板)
Si膜厚分布(約25μm) |
ボンディング膜厚分布(約25μm) |
OTSUKA大冢-负载端口对应膜厚测量系统GS-300OTSUKA大冢-负载端口对应膜厚测量系统GS-300OTSUKA大冢-负载端口对应膜厚测量系统GS-300OTSUKA大冢-负载端口对应膜厚测量系统GS-300OTSUKA大冢-负载端口对应膜厚测量系统GS-300