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OTF-1200X-II-ZL是一款炉管可在炉管内部移动的(在真空气氛保护环境下移动)管式炉,*多可依次移动4个坩埚。特殊的坩埚推送机构,可将坩埚在炉管内推出后再拉回,让坩埚能做往返移动。坩埚移动位置&炉体的温度控制都采用一触摸屏控制。此款设备可进行物理化学混合沉积(HPCVD),快速热蒸发(RTE)等实验,特别适合制备多层二维晶体材料。
技术参数
开启式管式炉 |
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真空密封 |
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坩埚移动机构(转轮式法兰) |
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坩埚移动控制 |
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防腐型数显真空计
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混气系统 |
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产品尺寸 |
2400L×600W×1300mm H |
质保 |
一年质保期,终生维护(不包含炉管,密封圈和加热元件) |
使用注意事项 |
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应用注意事项 |
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