平面刻蚀是在两块平面电极之间进行刻蚀,它与常见的感应耦合等离子体（ICP）不同,是通过高压线圈产生的。我们的SCE系列铝制反应舱等离子体系统是该领域最新的产品。
无论是做研发阶段还是量产阶段,总有一款SCE系统可以满足用户的需要。无论从设备设计质量还是经济实用的角度考量,我们的等离子平面刻蚀机都具优势。
SCEA1414铝制舱等离子平面刻蚀机
1,可配三路气体通路；
2,约45升舱体容积（14x14x14英寸）的反应舱；
3,可配四种不同等离子模式的四托架结构；
4,射频功率为0-300 瓦, 13.56兆赫兹；
5,可选配 600瓦和1000瓦 13.56兆赫兹的功率源；
6,可选配低频；
SCEA1818 铝制舱等离子平面刻蚀机
1,可提供四路气体通道；
2,约96升舱体容积（18x18x18英寸）的反应舱体；
3,配有6托架结构,可支持初级或者下游等离子
4,可选配机械手样品上下载装置；
5,可选配生产线设置；
6,射频功率为0-600 瓦, 13.56兆赫兹；
7,可选配1000瓦 13.56兆赫兹的功率源；
8,可选配低频；
SCEQ0408石英舱等离子平面刻蚀机
1,可配三路气体通路；
2,约1.6升舱体容积（4英寸直径8英寸深度）的反应舱体；
3,标配 射频功率为0-150 瓦 手调,13.56兆赫兹；
4,可选配0-300瓦电调,13.56兆赫兹的功率源；
SCEQ0608石英舱等离子平面刻蚀机
1,可配三路气体通路；
2,约3.7升舱体容积（6英寸直径 8英寸深度）的反应舱体；
3,标配 射频功率为0-150 瓦 手调,13.56兆赫兹；
4,可选配0-300瓦电调,13.56兆赫兹的功率源；
SCEQ0808石英舱等离子平面刻蚀机
1,可配三路气体通路；
2,约6.5升舱体容积（8英寸直径8英寸深度）的反应舱体；
3,标配 射频功率为0-150 瓦 手调,13.56兆赫兹；
4,可选配0-300瓦电调,13.56兆赫兹的功率源；
石英舱系统可以配置,用于平面定向要非等向性和感应耦合等离子体（ICP）定向两种模式的等离子体产生。
需要更详细的等离子平面刻蚀机的信息,