全世界最大磨润设备生产商─CETR (Center For Tribology Inc.) ， 其最新推出之型号 eCP-4为世界首创兼具化学机械研磨及电化学机械研磨之桌上型机台。机台可用于 CMP , eCMP 制程之研究 及 有关消耗品之开发、研究。 全自动计算机控制系统，可实时分析各种检测器之讯号︰

芯片与研磨垫 或 垫与麿垫片(CMP pad conditioner) 之间动态摩擦系数量测，从而了解芯片之研磨速度及不均匀性 
在电化学机械研磨应用时，可实时侦测电流强度及电压值 
透过音频输出检测器 ( acoustic emission detector) 所测得之能量及峰值，可判断研磨强度及半导体薄膜上极微小之裂缝、脱落 
可实时侦测研磨液及研磨垫之温度变化 
可实时侦测研磨垫在研磨时或磨垫时之磨损深度(pad wear depth)