AEP NanoMap 500LS 台阶仪

产品简介：

美国AEP 公司专注于表面测量技术开发与应用, 其生产的台阶仪和光学轮廓仪, 厚度、粗糙度、孔深 …等三维空间尺寸测量，并适用于多种产业，例如 : 芯片封装、MEMS 、电路板、 LED、LCD。同时AEP亦开发出实时应力分析及镀膜后的应力测量设备, 以满足高新行业产品微日渐小化与高精度的要求.

NanoMap 500LS 台阶仪特点:

° 结合常规的台阶仪和扫描探针显微镜技术, 双模式操作:

长程扫描: 100mm特长扫描距离

短程扫描: 采用精确的压电陶瓷驱动扫描模式，三维扫描

范围从10μm X 10μm 到500μm X 500μm

° 标配5寸样品台, 8/12寸可选, 又可订做更大尺寸

° 不用额外付费，AEP 提供3D 测量软件

° 测量数据兼容功能强大的SPIP 分析软件

° 扫描头精心设计，避免因意外触碰引致的损坏

° 实时力量监控: 0.1 — 100 mg

° 同时可选台阶仪和光学轮廓仪的功能，节省空间

° 简易、友好的操作界面

° 探针测量采用高精度的光学传感器

° 长寿命白光LED 照明系统

可放置大样品（图中为200X200mm玻璃）

双模式光学轮廓仪、台阶仪

超低价！！！

USD28，000

技术规格

软件可控探针压力范围

0.1 -100 mg

垂直方向解释度

1Å

台阶高度重复性

5Å

最大高度测量范围

500 um

最大样本高度

50mm

Z轴马达移动范围

55mm

手动平台旋转范围

360°

手动平台倾斜范围

± 4°

探针针尖半径(可选)

2.5μm、5 μm、12.5 μm、25 μm,

0.2 — 0.8μm

短程扫描: (压电陶瓷驱动)

XY轴解释度

0.1 um

XY轴定位重复性

0.2 um

扫描速度

10 - 50 um/秒

扫描范围

10 - 500um

长程扫描

样本尺寸

150mm x 150mm

XY 平台重复性

5 um (2um 可选)

XY平台扫瞄范围

150mm x150mm(200mm可选)

最大扫描距离

150 mm

扫描速度

0.1 to5 mm/秒

参考片

参考片高度

100 micron

系统

相机视场

1.5 x1.5 mm

照明系统

暗场／明场式

操作系统

窗口XP

连接

USB2.0

电源

交流电110/ 240V， 350 W

尺寸

20”W x22”L x25”H

重量

160 lb

技术规格	软件可控探针压力范围	0.1 -100 mg
	垂直方向解释度	1Å
	台阶高度重复性	5Å
	最大高度测量范围	500 um
	最大样本高度	50mm
	Z轴马达移动范围	55mm
	手动平台旋转范围	360°
	手动平台倾斜范围	± 4°
	探针针尖半径(可选)	2.5μm、5 μm、12.5 μm、25 μm, 0.2 — 0.8μm
短程扫描: (压电陶瓷驱动)	XY轴解释度	0.1 um
	XY轴定位重复性	0.2 um
	扫描速度	10 - 50 um/秒
	扫描范围	10 - 500um
长程扫描	样本尺寸	150mm x 150mm
	XY 平台重复性	5 um (2um 可选)
	XY平台扫瞄范围	150mm x150mm(200mm可选)
	最大扫描距离	150 mm
	扫描速度	0.1 to5 mm/秒
参考片	参考片高度	100 micron
系统	相机视场	1.5 x1.5 mm
	照明系统	暗场／明场式
	操作系统	窗口XP
	连接	USB2.0
	电源	交流电110/ 240V， 350 W
	尺寸	20”W x22”L x25”H
	重量	160 lb