光谱椭偏仪 SpecEl

SpecEL 光谱椭偏仪

SpecEL-2000是一款操作便捷的台式光谱椭偏仪，主要用于测量平整和半透明的样品，例如硅晶圆片和玻璃片等薄膜。椭圆偏光技术是一种非接触式、非破坏性，以光学技术测量表面薄膜特性的方法。其检测原理是：当一束偏振光经过物体表面或界面时，其偏振极化状态会被改变。而椭偏仪就是通过探测样品表面的反射光，来测量此改变（即反射光和入射光的振幅及相位的改变量），以决定表面特性薄膜的光学常数（n、k值）及膜厚。SpecEL-2000测试系统主要包括：宽带光源、高性能线阵CCD光谱仪、导光器件、起偏器、样品测试台、检偏器、光学增强元件及测量分析软件。SpecEL-2000适合于探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构特性，通常应用于有薄膜存在的地方，其应用包括光学镀膜和保护膜、聚合物、光刻材料、平面平板显示、计算机读写头以及半导体集成电路制造的研究开发。另外，在生物、医学、化学、电化学及材料研究等方面有着广泛的应用。

SpecEL椭偏仪基本性能
·基本型号：SpecEI-2000-UV/VIS/NIR & SpecEI-2000-VIS/NIR
·光谱范围：290-1050nm (UV/VIS/NR) & 400-1000nm (VIS/NIR)
·测量范围：1nm~10μm
·膜厚分辨率：0.1nm
·测量时间：7~13s
·测量膜层：32层
·光束直径：300×1200μm (Smaller spots available)
·入射角度：700 (other angles available)
·样品调整：高度±1mm；倾斜±10
·测量指标：光学常数(n&k)及膜厚
·快速响应：在线测量
·基底材料：硅晶片和玻璃片等
·数学模型：折射率/谐振子/柯西/塞耳迈耶尔/麦克斯韦-加尼特等数学模型
·应用场合：光学镀膜/保护膜/聚合物/光刻材料/平面平板显示/导体集成电路

SpecEL椭偏仪应用软件
·厚度测量/n&k值测量/ psi & delta测量
·7s全光谱数据记录
·多种拟合模型选择
·Mapping绘图功能 (150×150mm)

膜厚测量仪

椭偏仪

等离子体监测仪器