品牌
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台湾聚昌AST
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型号
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Psur-100VB
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适用范围
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LED芯片制造
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AST聚昌科技Psur-100VB磁控溅镀设备(Magnetic Enhanced Sputter)是针对各种金属化製程、扩散阻障层或反应式光学薄膜等应用所设计的批量式量产设备。
应用
AST聚昌科技Psur-100VB磁控溅镀设备(Magnetic Enhanced Sputter)是针对各种金属化製程、扩散阻障层或反应式光学薄膜等应用所设计的批量式量产设备。尤其在ⅢⅤ族半导体的生产过程中,溅镀薄膜沉积製程之运用,已占有愈来愈多且重要的地位。主要的应用可分为下列三大类:
(1) WTi/Au/Ti或Ti/Au
(2) TaN或TiWSiN
(3) ITO或SiO2,TiO2
特点
Psur-100VB为符合量产上的需求,採用Batch Type大型量产全自动化功能设计,可大幅降低人员需求与人为疏失可能造成的良率与品质的不稳定性,确保整体的有效产出,此外,模组化的设计、优异的镀膜均匀性及批量化的生产模式,可提高250%的产能,进一步减少使用者资本支出及设备佔用面积。Psur-100VB溅镀设备的特点包括:
(1)高产出率(80 *∮2”wafers)
(2)高镀膜品质再现性与稳定性
(3)优异的Batch to Batch镀膜均匀性(<3%)
(4)可搭配批量式全自动化软体控制功能
(5)可扩充多样工业用方形靶材(Up to 4 Cathodes of Target)
(6)可搭配DC-Pulse或RF溅镀模式
(7)适用于各种不同基板,藉由以上功能,可提供使用者不同的製程量产需求之操作模式。