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产品型号：ZLM800
品牌：2394470
公司名称：上海贝丁汉工业自动化设备有限公司
所在地：上海闵行
发布时间：2015-11-06
上海贝丁汉工业自动化设备有限公司
产品简介
ZLM800多轴路同步激光干涉仪--双频激光干涉仪，主要用于微位移部件的测量，角度变化量的监测，移动平台运动情况的检测，及光刻机几何量的测量，数控机床几何量的测量，最多实现六轴联动。
产品详情
应用案例
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产品功能
ZLM800多轴路同步激光干涉仪——双频激光干涉仪，主要用于各种平台和部件的微位测量、各种摆镜角度变化量的监测、运动平台位移量和角度变化的检测、光刻机几何量的测量、数控机床几何量的测量等，最多可实现六轴联动。也可通过位移+偏摆+俯仰的三角关系检测物体的振动变化。
1.纳米级的多轴联动位移、速度、加速度的动静态测量分析及运动控制环同步测量校准；
2.同步实时测量多轴联动驱动部件的俯仰、扭摆、滚动的角位移变化, X-Y-Z 轴的联动插补位移误差及驱动匹配误差分析；
3.纳米级振动的多轴向同步数据采集测量和分析。
技术参数
型号：ZLM800
使用高性能PCI或机架式数据处理器
He-Ne激光平均波长：
632.8 nm
激光稳频精度：
一小时2x10-9（±0.002ppm）
寿命内2x10-8（±0.02ppm）
系统精度（0-40℃时）：
±0.4ppm
光束直径：
6mm (可选3.2mm)
激光管突发最大输出功率：
5mW (激光等级2)
每束光可测量的轴数：
最多6个
线性测量距离：
2m
角度测量范围：
± 10°
最大速度：
2m/s
最大加速：
无限制
最高采样频率：
内部1MHz，外部40MHz
预热时间：
10分钟
位移测量分辨率：
1.25nm
位移测量精度：
±0.4ppm (μ/m)
角度测量分辨率：
0.003μrad
角度测量精度：
±0.1ppm实测值
数据接口：
积分信号
32 Bit (实时时间)
数据延时< 20 ns
数据分析标准：
ISO230/VDI3441/VDI2617/NMTBA
工作环境：
温度：15°C-30°C
湿度：<90%无冷凝
储存环境：
温度：10°C-40°C
湿度：<95%无冷凝
性能优势
l 系统采用双频激光发射器及多轴路干涉信号同步数据处理器，是真正意义上的双频激光干涉仪，频差为640MHz。请用户注意“激光干涉仪”和“双频激光干涉仪”概念的区别，众所周知双频激光干涉仪精度更好、性能更稳定。世界范围内只有两家双频激光干涉仪的生产商，德国耶拿尔公司是其中的一家。
l 全部部件皆在德国生产制造，绝非为了降低成本而在第三方国家进行部件加工。光学组件全部采用蔡司光学镜，是世界上唯一一家将顶级的蔡司光学镜用于激光干涉仪领域的产品制造商。
l 激光器寿命更长，可达20000小时，激光稳频精度高，一小时内为±0.002ppm，在产品寿命内可达±0.02ppm。
l 干涉镜采用差分干涉原理，系统精度更高，可达±0.4ppm。
l 基于可朔源的激光波长为位移量度量基准，应用双频激光外差式干涉原理及交流光电信号处理器，克服了单频激光干涉测量的直流电平漂移及受环境因素光强变化约束的弊端，具有极高的增益、高信噪比和抗电磁干扰性能，实现了可朔源的多光路外差式激光干涉测量。
l 采样频率更快，最高达1MHz，可在0.001Hz-1MHz之间进行选择。
l 被测物体最大速度16m/s（可选）；采用高精度AE950 PCI数据处理器，分辨率达0.6nm（当移动速度为1m/s时，线性分辨率更可高达为0.1nm）。
l 无加速度限制；当光线微弱时，性能也十分稳定。
l 信号延时<200ns；对电磁干扰不敏感。
l 对于多轴联动复杂光路的角度和微位移的测量，ZLM800微位移测量激光干涉仪是理想的选择。
应用案例
以下是为中国科学院某项目设计的ZLM800双频激光干涉仪两个应用案例。在第一个案例中，用两个3轴角度干涉仪分别监视两个摆镜的摆动，实时测试两个摆镜对应量（俯仰、偏摆和位移）的差异情况。在第二个案例中，用一个3轴角度干涉仪来测试摆镜的镜面摆动情况，2个单轴位移干涉仪检测一个两轴位移平台的运动情况。
ZLM800部分光路图示例
从X、Y和Z方向同时测量位移变化，其中X和Y在一个水平层面上
下述案例是为国内某研究所某项目设计的ZLM800测量系统。用户预先把被测物体放置在密闭箱中，密闭箱留有观察窗口。所需要测量的数据是被监视目标Ⅰ、被监视目标Ⅱ的X、Y向的角度变化量，以及这两个目标在Z方向的相对变化量。
ZLM800部分光路图示例
从X、Y和Z方向同时测量位移变化，其中X和Y在一个水平层面上
从X、Y和Z方向同时测量位移变化，其中X和Y不在一个水平层面上
在水平方向同时测量位移、偏摆和俯仰角度变化（上图）
在垂直方向同时测量位移、偏摆和俯仰角度变化（上图）
同时从X和Y方向测量位移和偏摆变化（上图）
同时从X和Y方向测量运动平台两个层面的位移变化（上图）
同时从X和Y方向测量位移、偏摆和俯仰的角度的变化（1）
同时从X和Y方向测量位移、偏摆和俯仰的变化（2）
同时从X和Y方向测量位移、偏摆和俯仰的变化（3）
机床行业对线性编码器和旋转编码器的动态同步进行标定（三个轴路）
光刻机应用布置图，测量位移和角度变化
资料下载
复杂光路测量的应用.pdf
系统应用简介.pdf
如果用户有更复杂的光路需求，欢迎来电垂询！
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