厚度范围： 1nm～10um
厚度分辨率： 0.1nm (1埃)
重现性： 70nm SiO2 on Si,  cos(Delta) ±0.0003, tan(Psi) ±0.0002
光斑大小: 300×1200 um（小尺寸光斑可选配）
光学参数: 可得出：n（折射率）、k（吸收率）值
折射率精度: 0.005
光谱范围: 400～1000nm （可选290～1050nm）
光谱分辨率: 1 nm
入射角度: 70°（其他角度可选配）
薄膜层数: > 3层
参考测量: 不需要参考，直接测量
膜层材料: 波片、光学材料等
透明膜: 可以测透明膜
测量速度: 7～13秒
样品定位最大允许误差: 高度允许误差±3mm；光入射角允许±1°,不需进行高度和倾斜角调整
可与显微镜匹配使用
可显微观察，与显微镜匹配使用
扫描测量:可以扫描测量，扫描直径6英寸或12英寸
真空应用:由用户自行选购后，可以在真空环境中使用
操作软件:操作界面友好，使用简单的测量软件, 测量膜厚、n值、k值、膜层结构编辑功能

注：可用于：在线过程监控或离线产品检测

• 可直接得到光学参数、n值（折射率）、k值（吸收率）及厚度，并可作在线即时测量；
• 可作各光学参数的整理归档，并以各种不同模式输出；
• 非接触式测量，不刮伤损坏测试样品；
• 体积小巧：由高性能的微型光纤光谱仪构成分光逐渐，体积小巧；
• 使用简单方便：由计算机控制测量，只需按一个按键，即可完成薄膜特性检测。

椭偏仪原理：
椭圆偏光法是基于测量偏振光经过样品反射后振幅和相位的改变研究材料的性质。光谱型椭偏仪在全部光谱范围内(而不是特定的波长)测量Psi和Delta，通过构建物理模型对数据进行拟合分析，最终得到膜厚、折光系数、吸收、粗糙度、组成比率等结果。