公司名称:FEI香港有限公司 所在地:北京通州 发布时间:2009-08-07 联系人:臧洁 联系电话: (8610)6517 1088*3600 FEI香港有限公司 产品简介 Helios NanoLab FESEM/FIB"双束"显微镜 产品详情 技术参数 1.分辨率 在最适佳工作距离下: 0.9nm @ 15kV 1.4nm @ 1kV 在束交点(电子束+离子束)的工作距离下: 1.0nm @ 15kV, 束交点工作距离 4mm 5nm FIB @ 30kV,束交点工作距离 16.5mm 2.加速电压范围: SEM: 30kV 至 350V FIB: 30kV 至 500V 3.探测器: 新一代TLD二次电子/背散射电子探测器 样品室红外CCD 可选CDEM离子探测器、STEM、固体背散射探测器等 4.气体注入系统(GIS): Pt沉积气体 W沉积气体 C沉积气体 金属增强蚀刻气体 氧化物增强蚀刻气体 (FEI目前可提供多达11种气体) 5.150mm(6")压电陶瓷马达驱动的全对中样品台 主要特点 1. Schottky FESEM第一次达到亚纳米分辨率 2. FIB出色的分辨率以及最大范围的束流和加速电压 3. 出色的成像质量和系统稳定性 4. 新集成的电子和离子束16 位数字图案生成器 5. 最薄的样品制备,非常低的样品损伤、高速度、并且操作轻松 6. 二维和三维的纳米表征和纳米原型制作达到了新的极限 仪器介绍 Helios NanoLab是目前最强大的场发射扫描(FESEM)+聚焦离子束(FIB)"双束"显微镜系统, 是FESEM/FIB 应用的前沿工具: - 无与伦比的成像性能 - 二维和三维 纳米分析 - 高级纳米原型设计 - 终极的样本制备性能 商铺其他产品 联系商家 立即询价 发布询价单 询价产品:Helios NanoLab FESEM/FIB"双束"显微镜 Helios 600 NanoLab 询价数量: /个 联系人: 联系电话:
技术参数 1.分辨率 在最适佳工作距离下: 0.9nm @ 15kV 1.4nm @ 1kV 在束交点(电子束+离子束)的工作距离下: 1.0nm @ 15kV, 束交点工作距离 4mm 5nm FIB @ 30kV,束交点工作距离 16.5mm 2.加速电压范围: SEM: 30kV 至 350V FIB: 30kV 至 500V 3.探测器: 新一代TLD二次电子/背散射电子探测器 样品室红外CCD 可选CDEM离子探测器、STEM、固体背散射探测器等 4.气体注入系统(GIS): Pt沉积气体 W沉积气体 C沉积气体 金属增强蚀刻气体 氧化物增强蚀刻气体 (FEI目前可提供多达11种气体) 5.150mm(6")压电陶瓷马达驱动的全对中样品台 主要特点 1. Schottky FESEM第一次达到亚纳米分辨率 2. FIB出色的分辨率以及最大范围的束流和加速电压 3. 出色的成像质量和系统稳定性 4. 新集成的电子和离子束16 位数字图案生成器 5. 最薄的样品制备,非常低的样品损伤、高速度、并且操作轻松 6. 二维和三维的纳米表征和纳米原型制作达到了新的极限 仪器介绍 Helios NanoLab是目前最强大的场发射扫描(FESEM)+聚焦离子束(FIB)"双束"显微镜系统, 是FESEM/FIB 应用的前沿工具: - 无与伦比的成像性能 - 二维和三维 纳米分析 - 高级纳米原型设计 - 终极的样本制备性能