全自动光电子能谱仪 K-Alpha

技术参数
K-Alpha 作为新一代的现代化XPS 能谱仪，可以全自动实现以下功能：

高精度的表面化学表征：
单色化XPS 快速准确地鉴别表面元素组分、化学态及微小特征分析；结合独特的自动中和技术可对各种绝缘样品进行快速XPS 分析

高分辨的XPS 深度剖析：
小束斑XPS 配合新型离子枪，通过逐层表面剥离方法（离子刻蚀），测量样品表层元素和化合物随深度分布的信息。

高灵敏度XPS 化学态成像：
多达128 道的探测器快照式获得各个扫描点的元素成分和化学态信息, 从而获得样品表面高灵敏度化学态图像，如浓度空间分布图、薄膜厚度图。

能量分辨率极限能量分辨率 < 0.5 eV （电子伏特）FWHM
分析区域从30－400微米连续可调。

主要特点
高性能
微聚焦单色器，提高了仪器灵敏度和化学态分析精度。
革新设计的新型传输透镜结合高通量X射线光源和优化机构设计保证对于所有类型分析的最高灵敏度。
128通道探测更加提高了灵敏度，并可以以“快照”方式快速获得刻蚀和图像信息。
对于小面积XPS分析和成像，经过电子微聚焦和单色化的射线可以聚焦到小区域。
 先进的全自动中和技术，用于处理绝缘样品。
 内置高密度低能量离子源进行深度剖析。低能量溅射结合同轴旋转，产生高分辨率的深度分布信息。

全自动操作、使用简单方便
采用Avantage这一世界水平的软件系统，可完成K-Alpha所有功能和仪器参数（真空系统、电器等）的计算机控制。.
 样品传送和定位全自动进行。
使用独特的反射光学系统实时观察样品，结合同轴与散射样品照明，让用户在进行微区XPS分析时可以准确精密的进行分析区域定位。
对于小面积分析，使用实时反射观察进行精确对中。反射观察提供每一个分析点实时放大图像。分析点、线、区域，使用真实的“点击”用户界面定义。
提供双光源。对于粗糙表面，如：粉末和陶瓷，采用离轴照明，对于光滑、表面反射强的样品，如：玻璃和半导体晶元，采用同轴照明。

三种操作模式给用户最大的灵活度
全自动模式，人为干涉最少
设定模式，用于常规分析
全交互式专家级操作

可随时自动进行标定和对中

可靠，容易维护
 采用紧凑的一体化全内置设计，仪器构造简练稳固。安装和维护工作大大简化。
 最大限度减少停机时间。
 阳极和阴极可长时间使用。
 内置式烘烤设计，全自动进行烘烤，烘烤时不需要拆除电缆。
 小占地面积(1.8 m x 1.2 m) 使其可以轻易放置在小面积的实验室里。

仪器介绍
由于传统XPS的使用和维护复杂、成本高昂（或者性能低），大大妨碍了
这一表面分析有效手段的推广。
K-Alpha是Thermo Scientific最新研制的综合性能一体化XPS，
多项新技术的应用，使其可以同时满足现代用户对于：高性能、低成本、
容易使用、维护简单的要求。

K-Alpha是第一台可以全自动完成从进样到产生报告整个分析过程的XPS工具。
这意味着即使新用户经过简单培训就可以得到高质量可重复的样品分析报告。

K-Alpha诞生的主要意义在于XPS将从一种比较复杂的研究方法，变为一种可靠、简单的研究和测试工具。