脉冲激光沉积 PLD

产品型号：	脉冲激光沉积PLD
产品简介：	脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被称为脉冲激光烧蚀（pulsed laserablation，PLA），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。我公司依据实验要求设计制作该款设备以适应各类薄膜研究的需要。我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定（含采购商ISO14000的环境体系要求），不会造成环境污染；该产品符合含采购商OHSMS18000职业安全健康管理体系标准的要求，不会对接触产品的人员健康造成伤害！
主要特点：	1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性； 2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀； 3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制； 4. 发展潜力巨大，具有极大的兼容性； 5. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。
技术参数：	电源：单相50/60Hz 220v 加热(功率)电源：2.5KW 16A 控制柜电源空气开关：25A空气开关薄膜生长室温度：室温1200℃ 靶材转速：转速20-30转/分质量流量控制器的标定：氮气质量流量控制器的流量范围：0-500sccm 机械泵抽气速率：4L/S 薄膜生长室真空度：5min 约40mtor，20min 约15mtor，极限真空10mtor 炉腔内径：45mm 极热温区：200mm 恒温区长度：约100mm
产品规格：	净重：
可选配件：	103高真空系统、供气（混气）系统、各种高纯氧化铝坩埚及石英坩埚、双级旋片机械泵、高纯度刚玉及石英炉管等
产品证书：	CE认证