● 采用气体作为清洗介质，避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。
● 可短时间内彻底清洗掉有机污染物。
● 清洗程度可达到分子级。
● 可在特定条件下根据需要改变某些材料表面的性能。
● 清洗过程中的辉光放电可对某些特殊用途的材料加强粘附性、相容性和浸润性，并可**和**。
● 样品台可选配加热功能，可加负偏压，用以实现离子蚀刻。
● 广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。

● 电压：AC220V  10A
● 消耗功率：<500W（包括真空泵）
● RF电源：输出功率100W，输出频率13.56MHz
● 腔体：Φ190mm×98mm

● 石英管：Φ180mm×55mm，壁厚7mm
● 内腔：Φ165mm×55mm
● 清洗电极：Φ120mm
● 样品台：Φ150mm，有效尺寸Φ140mm
● 样品台与电极间距：15mm-50mm
● 可调抽气管：Φ12mm
● 极限真空度：0.1Pa
● 工作真空度：60Pa-500Pa
● 气路数量：2路（选装）
● 流量控制器数量：1、2
● 流量显示仪：2通道
● 气路接口：Φ6mm
● 加热样品台：Φ140mm，加热样品温度RT-600℃±1℃（选装）
● 冷却水压力：0.2KPa-0.4KPa
● 工作环境：温度5℃-35℃，湿度<80%（相对湿度）不结露，海拔高度0-2000m

● 尺寸：245mm×235mm×460mm（不含真空泵）
● 重量：20kg（不含真空泵）

● 加热样品台
● 流量控制器（量程10、50、100，*多可增加2个通道）