In-situ Optical NanoGauge (In-situナノゲージ)
化合物半導体をはじめとした半導体製造工程における微細加工のエッチングや成膜のプロセスにおいて、リアルタイムで膜厚を測定する装置です。従来、時間管理で行っていた成膜プロセスをリアルタイムモニタすることにより、成膜精度を向上することができます。さらにプロセス時間の短縮やプロセスガスの低減も可能です。
製品カタログ(PDF436KB) 詳しい情報は膜厚測定・形状計測の専用サイトへ
特 長
● 多波長同時計測による独自のアルゴリズムを確立
● 白色干渉法により、任意の波長で解析が可能
● 紫外領域まで対応可能
● 微小膜厚変化に対応 (膜厚変化検出精度:<2 nm)
● ロングワーキングディスタンス
● 測定スポットサイズ : φ100 μm以下
● 微細パターンサンプルにも自動位置合わせ機能で対応
● ユーザー環境に合わせたSMTドライバの作成が可能