合肥密维9J光切法显微镜

9J光切法显微镜

仪器用途：

具有相同频率、相同的振动方向和恒定相位差的光线，在空间叠加会发生干涉现象，这就是光波的干涉原理。利用光波的干涉原理和显微镜非接触检测特点对试样表面上高度极微小差别进行测量。

这类显微镜依据所测光洁度▽3-▽9/0.8-80um为光切法显微镜，▽10-▽14/1-0.03um为干涉显微镜。适用于测量零件表面刻线，镀层深度等，配以特殊的附件还能测量颗粒加工纹路面，低反射率的工件表面，对大型工件作表面测量时，可将仪器倒置在工件上。

主要技术规格：

1、测量表面光洁度范围：▽3-▽9(相当不平度0.8-80um)

2、表面光洁度（级别）：9、8-7、6-5、4-3

3、所需物镜：60倍N.A.0.55、30倍N.A.0.40、 14倍N.A.0.20、7倍N.A.0.12

4、总放大倍数：510X、260X、120X、60X

5、物镜组件工作距离(mm):0.04、0.2、2.5、9.5

6、视场（mm）:0.3、0.6、1.3、2.5

7、不平宽度：用测微目镜：0.7微米~2.5毫米

用座标工作台：（0.01~13）毫米

8、仪器重量约： 23公斤