X射线用氧化硅薄膜窗口 SO

X射线用氧化硅薄膜窗口

RISUN推出新型二氧化硅薄膜窗系列产品。与氮化硅相比，氧化硅更易遭受化学侵蚀，且坚固性更差。但在X-射线显微镜中，由于没有N原子存在而倍受青睐。

X射线用氧化硅薄膜窗口与氮化硅薄膜窗比较：

相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，则会与样本造成混淆。

RISUN氧化硅薄膜窗特点

许多研究纳米微粒，特别是含氮纳米微粒的人员发现此种薄膜窗格在他们实验中不可缺少。气凝胶和干凝胶的基本组成微粒尺寸极小，此项研究人员也同样会发现SPI氧化硅薄膜窗格的价值。

· SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。

· X射线显微镜中，装载多个分析样的唯一方法。

· 无氮

RISUN氧化硅薄膜窗规格

硅片厚度：200um、381um、525um；

定制系列

RISUN也可以根据用户需求定制不同膜厚的氧化硅窗口。

本产品为一次性产品，不建议用户重复使用；本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。

应用简介

实际上，RISUN氧化硅薄膜应用范围非常广，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）：

1. 惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。

2. 作为耐用（如“强力”）基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。

3. 作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。

4. 聚焦离子束（FIB）样本的装载。

5．用作Ti、V、Mo等滤光器基质；用于X-射线光学设备中，如分光器

定制服务：本公司接受特殊规格的产品预订，价格从优。

详情请咨询：admin@instsun.com