ETMapSys在线薄膜测量系统

ETMapSys是针对高端纳米薄膜研发和质量控制领域中大面积样品检测专门设计的在线薄膜测量系统。

ETMapSys用于对1.4m * 1.1m及以上的大面积样品进行在线检测。可测量光滑平面基底上的纳米薄膜，包括单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；并可同时测量块状材料的折射率n和消光系数k。可测量样品上指定区域的样品参数以及样品表面的均一性分布。

ETMapSys融合量拓科技在高精度激光椭偏仪的先进技术和产品设计方面的经验，性能卓越。

ETMapSys适合于高精度要求的大面积纳米薄膜研发和质量控制。

ETMapSys可用于测量大面积的纳米薄膜样品上单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；同时用于块状材料

ETMapSys可应用于：

项目	技术指标
系统型号	ETMapSys-PV
结构类型	在线式
激光波长	632.8nm (He-Ne laser)
膜厚测量重复性^（^1）	0.05nm (对于Si基底上100nm的SiO₂膜层)
折射率n测量重复性^（^1）	5x10^-4(对于Si基底上100nm的SiO₂膜层)
结构	PSCA
激光光束直径	~1 mm
入射角度	65°-75°可选
样品放置	放置方式：水平运动：X轴单方向运动运动范围：>1.4m 三维平移调节二维俯仰调节可对样品进行扫描测量
样品台尺寸	1.4m*1.1m，并可定制。
测量速度	典型0.6s-4s /点（取决于样品种类及测量设置）
最大的膜层厚度测量范围	粗糙表面样品：与绒面物理结构及材料性质相关光滑平面样品：透明薄膜可达4000nm，吸收薄膜与材料性质相关
选配件	样品监视系统自动样品上片系统

注：（1）测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量25次所计算的标准差。