法国Annealsys As-Micro快速退火炉RTP AS-Micro

法国Annealsys As-Micro快速退火炉RTP
应用于半导体材料、器件（如LED）、新材料等的快速热处理（如快速退火、合金等工艺），适用3-6英寸工艺尺寸。实验室用3英寸RTP设备
双腔版本防止交叉污染

应用
   快速热退火 (RTA)
   离子注入退火
   化合物半导体退火
   结晶化和致密化
   硒化和硫化
   其他

具体参数
    3英寸快速热处理设备RTP
    便携式桌面配置
    用于研发
    样品尺寸:平方毫米至 3-inch 直径
    可选 3-inch 基片托适用 2-inch 样品
    工艺腔室带石英管和不锈钢法兰
    管式红外卤灯炉
    极快的升温速率
    带石英托盘的水平移动门板，便于装卸基片
    配备热电偶
性能 & 特点
温度范围: (RT)室温至 1250°C
    2英寸硅片升温速率可达250°C/s, 3英寸基片可达200°C/s
    带质量流量控制器的气体混合性能
    真空范围: 大气至 10-2 Torr (10-6 Torr带可选分子泵)
    热电偶温度测量及快速数字PID控制
    确保温度范围内高效稳定的控制温度.
    可选高温计控制.
    设备提供完整电脑控制功能，带兼容Windows的软件