真空井式高温炉

真空井式高温炉额定温度分别为1100°C，1300°C，1600°C，1700°C，根据不同的气氛，不同的温度，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可以满足于不同的工艺实验而特殊制造，采用51段程序控温系统，移相触发，可控硅控制，炉膛采用1800型氧铝多晶体纤维材料，具有温场均衡，表面温度低，升温速率快，节能等优点。用途：真空井式高温炉适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结，玻璃的精密退火与微晶化，晶体的精密退火，陶瓷釉料制备，粉末冶金，纳米材料的烧结，金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位，高等院校工矿企业理想的实验和生产设备。