热膨胀仪 L76

主要特点




	所有L75型可在真空环境下工作；并具自动调零功能；而L76型则不能工作於真空环境下；且须手动调零

技术参数

L75H参数：
温度范围： -150°C至+500°C，室温至1000/1400/1600/2000°C
操作模式：水平式单推进杆和双推进杆两种模式
真空：可达10E-5mbar
样品支架：使用材质石英，氧化铝（Al2O3），石墨
压力控制：带数字显示自动控制
热膨胀系数（CTE）、样品长度变化（Delta L）
烧结与软化温度范围、烧结速率控制软件（RCS）、可进行差热分析（DTA）评估。

L75V参数
温度范围： -150°C至+500°C 室温至 1000/1400/1600/1750/2000/2400°C
操作模式：直立式“零摩擦” 单推进杆和双推进杆两种模式
真空：可达10E-5mbar
样品支架：使用材质石英，氧化铝（Al2O3），石墨
压力控制：带数字显示自动控制
测量：热膨胀系数（CTE）、样品长度变化（Delta L）、烧结与软化温度范围、烧结速率控制软件（RCS）、可进行差热分析（DTA）评估。

应用领域

膨胀仪通过测量物体随温度变化引起的长度变化(延伸　收缩)德到物体的膨胀系数　这是物质的一个重要参数,还可用它研究材料相的转变、烧结过程、晶体结构变化、聚合物分解等等。可用於矿物矿产　陶瓷工业、耐火材料、红砖和墙地砖制作，高科技瓷生产以及钢铁工业等等方面的常规检测，质量控制，基础研究和新产品开发，测量系统用石英、烧结铝或石墨制成，使其测量温度宽、结果稳定，并拥有高灵敏度、高辨识率。

在新材料的研究　质量控制　特别是高科技陶瓷方面需要在越来越高温度下的分析仪器通过，Linseis 膨胀仪扩展程序加一个高温燃烧室既可满足所有的超过2000 的测量需要。

L75/76 膨胀仪的记录和数据分析完全采用计算机并配以 WINDOWS95/NT下相应的软件, 为测量提供了极大的方便。