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电解式膜厚计的技术参数
2012/9/16 4:00:16
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电解式膜厚计的技术参数
   电解式膜厚计 可测镀层:金、银、化学镍、铟、硬铬、装饰铬、锌、镉、锡、铅、铜、钴、镍、铁、双重镍、三重镍、黑铬、锡锌合金、锡铅合金、铜锌合金、镍钴合金、镍铁合金等。可选用线材测试器(WT),检测线形、圆柱形及微小部品。主要适用于镀层厚度较厚(大于30um)的样品,检测值更精准。
  电解式膜厚计 技术参数:
1. 检测范围:0.006~300um。
2. 解析度:0.001um。 3. 检测面积:
3.4 , 2.4 , 1.7∮㎜
4.检测速度:250nm/s、125nm/s、50nm/s、25nm/s、12.5nm/s、5nm/s、2.5nm/s、1.25nm/s。
 
科迪仪器 专业生产: ETC-083 超声波测厚仪 、 GCT-311 计算机型电解式膜厚计 、 CT-3 普及型电解式膜厚计 、 COSMOS-2X 荧光X 射线膜厚仪 、 EX-3000 荧光X 射线测厚仪 、 Ct-4 电解式膜厚计 、 TR200 表面粗糙度仪 、 CMI900 电镀层测厚仪|CMI900 镀金测厚仪 |CMI900 镀镍测厚仪
 
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