德国海德堡激光直写系统 DWL 66

德国海德堡激光直写系统－DWL66激光直写光绘系统，是海德堡公司考虑到客户低成本投入，及增加与客户互动关系理念下所设计的机台，虽价格不高，但他仍然维持了高精密的光绘品质，在微影技术与光学领域的研究发展上都获得了客户相当的满意口碑。同时重接单到持续增加中，更证明了DWL66系统的设计开发理念，用最小的花费提升最高的附加价值。

技术参数：

加工零件尺寸：150X150mm

绘图头焦距 Write Lens	2mm	4 mm	10 mm	20 mm	40 mm
最小线宽或间距 Minimum Feature	0.6um	1µm	2.5 µm	5 µm	10 µm
书写格网 Write Grid	20nm	40 nm	100 nm	200 nm	400 nm
CD均匀度 CD Uniformity	80nm	100 nm	220 nm	440 nm	880 nm
线宽均匀度 Line width Uniformity	100 nm	200 nm	400 nm	600 nm	1000 nm
线边粗糙度 Edge Roughness	60 nm	80 nm	120 nm	180 nm	280 nm
对准精度 Alignment Accuracy	200 nm	250 nm	500 nm	1 µm	2 µm
定位精度 Position Accuracy	0.4 um	0.6 µm	1 µm	1.5 µm	2 µm
读写时间 Writing time ( 80x80 mm)	70 hour	19 hour	3 hour	0.9 hour	0.3 hour

Applications 应用范围
该激光图形发生系统用于涂有光刻胶的各种基片，玻璃，硅片，或其他平面材料。
RETICLE（分划板），ASICS（晶片），MEMS（微机电系统），SENSOR（传感器），
REFRACTIVE OR DIFFRACTIVE OPTICS(折射及衍射光学), MOEMS(微光机电),
MCMS, HYBRIDS, INTEGRETED OPTICS（集成光学）, µTAS，SAW ect.